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유도결합형 플라즈마 반응성 이온식각 장치를 이용한 SrBi₂Ta₂$$O_9$$< / TEX> 박막의 물리적, 전기적 특성 = Physical and electrical characteristics of SrBi₂Ta₂$$O_9$$< / TEX> thin films etched with inductively coupled plasma reactive ion etching system
표제/저자사항 유도결합형 플라즈마 반응성 이온식각 장치를 이용한 SrBi₂Ta₂$$O_9$$< / TEX> 박막의 물리적, 전기적 특성 = Physical and electrical characteristics of SrBi₂Ta₂$$O_9$$< / TEX> thin films etched with inductively coupled plasma reactive ion etching system / 권영석, 심선일, 김익수, 김성일, 김용태, 김병호, 최인훈
형태사항 p. 11-16; 26 cm
주기사항 수록자료: 마이크로전자 및 패키징학회지. 한국마이크로전자 및 패키징학회. 9권 4호(2002년 12월), p. 11-16 9:4<11 상세보기 ISSN 1226-9360
저자: 권영석, 고려대학교 재료공학과 반도체재료연구실
저자: 심선일, 한국과학기술연구원 반도체소자연구실
저자: 김익수, 한국과학기술연구원 반도체소자연구실
저자: 김성일, 한국과학기술연구원 반도체소자연구실
저자: 김용태, 한국과학기술연구원 반도체소자연구실
저자: 김병호, 고려대학교 재료공학과 무기재료연구실
저자: 최인훈, 고려대학교 재료공학과 반도체재료연구실
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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