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반도체 배선용 저 유전 물질에서의 구리 확산에 대한 전기적 신뢰성 평가 = Characterization of electrical properties on Cu diffusion in low-k dielectric materials for ULSI interconnect
표제/저자사항 반도체 배선용 저 유전 물질에서의 구리 확산에 대한 전기적 신뢰성 평가 = Characterization of electrical properties on Cu diffusion in low-k dielectric materials for ULSI interconnect / 이희찬, 주영창, 노현욱, 윤도영, 이진규, 차국헌
형태사항 p. 9-15; 26 cm
주기사항 수록자료: 마이크로전자 및 패키징학회지. 한국마이크로전자 및 패키징학회. 11권 3호(2004년 9월), p. 9-15 11:3<9 상세보기 ISSN 1226-9360
저자: 이희찬, 서울대학교 재료공학부
저자: 주영창, 서울대학교 재료공학부 E-MAIL: ycjoo@plaza.snu.ac.kr
저자: 노현욱, 서울대학교 화학과
저자: 윤도영, 서울대학교 화학과
저자: 이진규, 서울대학교 화학과
저자: 차국헌, 서울대학교 응용화학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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