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암모니아 펄스 플라즈마를 이용한 원자층 증착된 질화텅스텐 확산방지막 특성 = NH₃pulse plasma treatment for atomic layer deposition of W-N diffusion barrier
표제/저자사항 암모니아 펄스 플라즈마를 이용한 원자층 증착된 질화텅스텐 확산방지막 특성 = NH₃pulse plasma treatment for atomic layer deposition of W-N diffusion barrier / 이창우
형태사항 p. 29-35; 26 cm
주기사항 수록자료: 마이크로전자 및 패키징학회지. 한국마이크로전자 및 패키징학회. 11권 4호(2004년 12월), p. 29-35 11:4<29 상세보기 ISSN 1226-9360
저자: 이창우, 국민대학교 나노전자물리학과 E-MAIL: cwlee@kookmin.ac.kr
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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