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평판형 고밀도 유도결합 BCl₃플라즈마를 이용한 AlGaAs와 InGaP의 건식식각 = Dry etching of AlGaAs and InGaP in a planar inductively coupled BCl₃plasma
표제/저자사항 평판형 고밀도 유도결합 BCl₃플라즈마를 이용한 AlGaAs와 InGaP의 건식식각 = Dry etching of AlGaAs and InGaP in a planar inductively coupled BCl₃plasma / 백인규, 임완태, 유승열, 이제원, 전민현, 박원욱, 조관식, S.J. Pearton
형태사항 p. 334-338; 26 cm
주기사항 수록자료: 한국표면공학회지. 한국표면공학회. 36권 4호(2003년 8월), p. 334-338 36:4<334 상세보기 ISSN 1225-8024
저자: 백인규, 인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소
저자: 임완태, 인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소
저자: 유승열, 인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소
저자: 이제원, 인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소 E-MAIL: jwlee@inje.ac.kr
저자: 전민현, 인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소
저자: 박원욱, 인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소
저자: 조관식, 인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소
저자: S.J. Pearton, Department of Materials Sci. and Eng., University of Florida
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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