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스퍼터링 방법으로 증착된 하층 NiFe 코어를 갖는 박막인덕터의 CMOS 집적화 공정 = Fully CMOS-compatible process integration of thin film inductor with a sputtered bottom NiFe core
표제/저자사항 스퍼터링 방법으로 증착된 하층 NiFe 코어를 갖는 박막인덕터의 CMOS 집적화 공정 = Fully CMOS-compatible process integration of thin film inductor with a sputtered bottom NiFe core / 박일용, 김상기, 구진근, 노태문, 이대우, 김종대
형태사항 p. 138-143; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회 논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.16 no.2(2003년 2월), p. 138-143 16:2<138 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 박일용, 한국전자통신연구원 반도체·원천기술연구소 E-MAIL: iypark71@etri.re.kr
저자: 김상기, 한국전자통신연구원 반도체·원천기술연구소
저자: 구진근, 한국전자통신연구원 반도체·원천기술연구소
저자: 노태문, 한국전자통신연구원 반도체·원천기술연구소
저자: 이대우, 한국전자통신연구원 반도체·원천기술연구소
저자: 김종대, 한국전자통신연구원 반도체·원천기술연구소
출처 국립중앙도서관 바로가기
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24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
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710 ▼a토지문화관
9501 ▼a가격불명
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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