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CI-based 플라즈마에 의한 YMnO₃박막의 식각 damage에 관한 연구 = Study on etching damages of YMnO₃thin films by CI-based plasma
표제/저자사항 CI-based 플라즈마에 의한 YMnO₃박막의 식각 damage에 관한 연구 = Study on etching damages of YMnO₃thin films by CI-based plasma / 박재화, 김경태, 김동표, 김창일, 장의구
형태사항 p. 449-453; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회 논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.16 no.6(2003년 6월), p. 449-453 16:6<449 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 박재화, 중앙대학교 전자전기공학부
저자: 김경태, 중앙대학교 전자전기공학부
저자: 김동표, 중앙대학교 전자전기공학부
저자: 김창일, 중앙대학교 전자전기공학부 E-MAIL: cikim@cau.ac.kr
저자: 장의구, 중앙대학교 전자전기공학부
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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