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비대칭 마그네트론 스퍼터링법으로 성장된 a-C:H 의 물리적 특성 = Characteristics of hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) thin films grown by close field unbalanced magnetron sputtering method
표제/저자사항 비대칭 마그네트론 스퍼터링법으로 성장된 a-C:H 의 물리적 특성 = Characteristics of hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) thin films grown by close field unbalanced magnetron sputtering method / 박용섭, 홍병유
형태사항 p. 278-282; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회 논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.17 no.3(2004년 3월), p. 278-282 17:3<278 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 박용섭, 성균관대학교 정보통신공학부
저자: 홍병유, 플라즈마 응용 표면기술 연구센타 E-MAIL: byhong@yurim.skku.ac.kr
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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