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마스크 뒷면에 2 위상 회절 격자를 구현한 변형 조명 방법 = Modified illumination by binary phase diffractive patterns on the backside of a photomask
표제/저자사항 마스크 뒷면에 2 위상 회절 격자를 구현한 변형 조명 방법 = Modified illumination by binary phase diffractive patterns on the backside of a photomask / 이재철, 오용호, 고춘수
형태사항 p. 697-700; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회 논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.17 no.7(2004년 7월), p. 697-700 17:7<697 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 이재철, 원광대학교 전기전자 및 정보공학부 E-MAIL: jclee@wonkwang.ac.kr
저자: 오용호, 원광대학교 전기전자 및 정보공학부
저자: 고춘수, 원광대학교 전기전자 및 정보공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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