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범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각 = (The)development of deep silicon etch process with conventional inductively coupled plasma (ICP) etcher
표제/저자사항
범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각 = (The)development of deep silicon etch process with conventional inductively coupled plasma (ICP) etcher / 조수범, 박세근, 오범환
형태사항
p. 701-707; 26 cm
주기사항
수록자료: 전기전자재료학회 논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.17 no.7(2004년 7월), p. 701-707 17:7<701 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 조수범, 인하대학교 정보통신공학과
저자: 박세근, 인하대학교 정보통신공학과
저자: 오범환, 인하대학교 정보통신공학과 E-MAIL: obh@inha.ac.kr
저자: 조수범, 인하대학교 정보통신공학과
저자: 박세근, 인하대학교 정보통신공학과
저자: 오범환, 인하대학교 정보통신공학과 E-MAIL: obh@inha.ac.kr
출처
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MARC 보기
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24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
710 ▼a한국생명윤리학회
710 ▼a토지문화관
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
