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Nano-scale CMOS를 위한 Ni-germano silicide의 열 안정성 연구 = Study of Ni-germano silicide thermal stability for nano-scale CMOS technology
표제/저자사항 Nano-scale CMOS를 위한 Ni-germano silicide의 열 안정성 연구 = Study of Ni-germano silicide thermal stability for nano-scale CMOS technology / 황빈봉, 오순영, 윤장근, 김용진, 지희환, 김용구, 왕진석, 이희덕
형태사항 p. 1149-1155; 26 cm
주기사항 수록자료: 전기전자재료학회 논문지. 한국전기전자재료학회. Vol.17 no.11(2004년 11월), p. 1149-1155 17:11<1149 상세보기 ISSN 1226-7945
저자: 황빈봉, 충남대학교 전자공학과
저자: 오순영, 충남대학교 전자공학과
저자: 윤장근, 충남대학교 전자공학과
저자: 김용진, 충남대학교 전자공학과
저자: 지희환, 충남대학교 전자공학과
저자: 김용구, 충남대학교 전자공학과
저자: 왕진석, 충남대학교 전자공학과
저자: 이희덕, 충남대학교 전자공학과 E-MAIL: hdlee@cnu.ac.kr
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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