기사
AI(Si, Cu) 합금막의 플라즈마 식각후 표면 특성 = Surface properties of AI(Si, Cu) alloy film after plasma etching
표제/저자사항 AI(Si, Cu) 합금막의 플라즈마 식각후 표면 특성 = Surface properties of AI(Si, Cu) alloy film after plasma etching / 구진근, 김창일, 박형호, 권광호, 현영철, 서경수, 남기수
형태사항 p. 291-297; 26 cm
주기사항 수록자료: 電氣電子材料學會誌. 韓國電氣電子材料學會. 9卷 3號(1996년 3월), p. 291-297 9:3<291 상세보기 ISSN 1225-6684
저자: 구진근, 한국전자통신연구소 반도체연구단 단위공정연구실장(책임연구원)
저자: 김창일, 안양대학교 전기공학과 전임강사
저자: 박형호, 연세대학교 공대 세라믹공학과 조교수
저자: 권광호, 한서대학교 전자공학과 전임강사
저자: 현영철, 한국전자통신연구소 반도체연구단 선임연구원
저자: 서경수, 한국전자통신연구소 반도체연구단 책임연구원
저자: 남기수, 한국전자통신연구소 반도체연구단 주문형 반도체연구부장(책임연구원)
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
위로