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염소(chlorine)가 도입된 SiO₂ / Si 계면을 가지는 게이트 산화막의 특성 분석 = Characterization of gate oxides with a chlorine incorporated SiO₂ / Si interface
표제/저자사항
염소(chlorine)가 도입된 SiO₂ / Si 계면을 가지는 게이트 산화막의 특성 분석 = Characterization of gate oxides with a chlorine incorporated SiO₂ / Si interface / 유병곤, 유종선, 노태문, 남기수
형태사항
p. 188-198; 26 cm
주기사항
수록자료: 한국진공학회지. 韓國眞空學會. 2권 2호(1993년 5월), p. 188-198 2:2<188 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 유병곤, 한국전자통신연구소 반도체연구단
저자: 유종선, 한국전자통신연구소 반도체연구단
저자: 노태문, 한국전자통신연구소 반도체연구단
저자: 남기수, 한국전자통신연구소 반도체연구단
저자: 유병곤, 한국전자통신연구소 반도체연구단
저자: 유종선, 한국전자통신연구소 반도체연구단
저자: 노태문, 한국전자통신연구소 반도체연구단
저자: 남기수, 한국전자통신연구소 반도체연구단
출처
국립중앙도서관 바로가기
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001KMO201509136
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24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
710 ▼a한국생명윤리학회
710 ▼a토지문화관
9501 ▼a가격불명
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
