기사
다층 리지스트 및 화합물 반도체 기판 구조에서의 전자 빔 리소그래피 공정을 위한 몬테 카를로 시뮬레이션 모델 개발 = (A)monte carlo simulation model development for electron beam lithography process in the multi-layer resists and compound semiconductor substrates
표제/저자사항 다층 리지스트 및 화합물 반도체 기판 구조에서의 전자 빔 리소그래피 공정을 위한 몬테 카를로 시뮬레이션 모델 개발 = (A)monte carlo simulation model development for electron beam lithography process in the multi-layer resists and compound semiconductor substrates / 손명식
형태사항 p. 182-192; 26 cm
주기사항 수록자료: 한국진공학회지. 韓國眞空學會. 12권 3호(2003년 9월), p. 182-192 12:3<182 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 손명식, 동국대학교 밀리미터파 신기술 연구센터 E-MAIL: sonms@dgu.edu
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
위로