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SiH₂Cl₂와 NH₃를 이용하여 원자층 증착법으로 형성된 실리콘 질화막의 특성 = (The)Characteristics of silicon nitride thin films prepared by atomic layer deposition method using SiH₂Cl₂and NH₃
표제/저자사항
SiH₂Cl₂와 NH₃를 이용하여 원자층 증착법으로 형성된 실리콘 질화막의 특성 = (The)Characteristics of silicon nitride thin films prepared by atomic layer deposition method using SiH₂Cl₂and NH₃ / 김운중, 한창희, 나사균, 이연승, 이원준
형태사항
p. 114-119; 26 cm
주기사항
수록자료: 한국진공학회지. 韓國眞空學會. 13권 3호(2004년 9월), p. 114-119 13:3<114 상세보기 ISSN 1225-8822
저자: 김운중, 세종대학교 신소재공학과
저자: 한창희, 한밭대학교 재료공학과
저자: 나사균, 한밭대학교 재료공학과
저자: 이연승, 한밭대학교 정보통신컴퓨터공학부
저자: 이원준, 세종대학교 신소재공학과 E-MAIL: wjlee@sejong.ac.kr
저자: 김운중, 세종대학교 신소재공학과
저자: 한창희, 한밭대학교 재료공학과
저자: 나사균, 한밭대학교 재료공학과
저자: 이연승, 한밭대학교 정보통신컴퓨터공학부
저자: 이원준, 세종대학교 신소재공학과 E-MAIL: wjlee@sejong.ac.kr
출처
국립중앙도서관 바로가기
MARC 보기
001KMO201509136
00520150303111639
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008150107s2001 gak 100 kor
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24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
710 ▼a한국생명윤리학회
710 ▼a토지문화관
9501 ▼a가격불명
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
