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193 nm 포토레지스트용 산 증식제로 2-나프탈렌술폰산과 2-티오펜술폰산 에스테르에 관한 연구 = 2-naphthalenesulfonate and 2-thiophenesulfonate esters as acid amplifiers for 193 nm photoresist
표제/저자사항 193 nm 포토레지스트용 산 증식제로 2-나프탈렌술폰산과 2-티오펜술폰산 에스테르에 관한 연구 = 2-naphthalenesulfonate and 2-thiophenesulfonate esters as acid amplifiers for 193 nm photoresist / 소진호, 임권택, 최상준, 정연태
형태사항 p. 424-428; 30 cm
주기사항 수록자료: 공업화학. 한국공업화학회. 15권 4호(2004년 6월), p. 424-428 15:4<424 상세보기 ISSN 1225-0112
저자: 소진호, 부경대학교 공과대학 화상정보공학부
저자: 임권택, 부경대학교 공과대학 화상정보공학부
저자: 최상준, 삼성전자 반도체 연구소
저자: 정연태, 부경대학교 공과대학 화상정보공학부 E-MAIL: ytheong@pknu.ac.kr
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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