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펨토초 레이저를 이용한 실리콘 웨이퍼 표면 미세가공 특성 = Micromachining of the si wafer surface using femtosecond laser pulses
표제/저자사항 펨토초 레이저를 이용한 실리콘 웨이퍼 표면 미세가공 특성 = Micromachining of the si wafer surface using femtosecond laser pulses / 김재구, 장원석, 조성학, 황경현, 나석주
형태사항 p. 184-189; 26 cm
주기사항 수록자료: 한국정밀공학회지. 한국정밀공학회. 22권 12호(2005년 12월), p. 184-189 22:12<184 상세보기 ISSN 1255-9071
저자: 김재구, 한국기계연구원 나노공정장비연구센터 E-MAIL: gugu99@kimm.re.kr
저자: 장원석, 한국기계연구원 나노공정장비연구센터
저자: 조성학, 한국기계연구원 나노공정장비연구센터
저자: 황경현, 한국기계연구원 나노공정장비연구센터
저자: 나석주, 한국과학기술원 기계공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
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001KMO201509136
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24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
710 ▼a한국생명윤리학회
710 ▼a토지문화관
9501 ▼a가격불명
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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