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고주파 반응성 스퍼터링법에 의한 Si$$O_x$$< / TEX>$$N_y$$< / TEX> 박막의 제작 = (The)preparation of Si$$O_x$$< / TEX>$$N_y$$< / TEX> thin films by reactive RF sputtering method
표제/저자사항 고주파 반응성 스퍼터링법에 의한 Si$$O_x$$< / TEX>$$N_y$$< / TEX> 박막의 제작 = (The)preparation of Si$$O_x$$< / TEX>$$N_y$$< / TEX> thin films by reactive RF sputtering method / 조승현, 최영복, 김덕현, 정성훈, 문동찬, 김선태
형태사항 p. 13-18 ; 29 cm
주기사항 수록자료: 한국광학회지. 한국광학회. 11권 1호(2000년 2월), p. 13-18 11:1<13 상세보기 ISSN 1225-6285
저자: 조승현, 한국통신 가입자망연구소
저자: 최영복, 한국통신 가입자망연구소
저자: 김덕현, 광운대학교 전자재료공학과
저자: 정성훈, 광운대학교 전자재료공학과
저자: 문동찬, 광운대학교 전자재료공학과
저자: 김선태, 대전산업대학교 재료공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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