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다중 디스펜싱 방법에 의한 UV-나노임프린트 리소그래피 = UV nanoimprint lithography using a multi-dispensing method
표제/저자사항 다중 디스펜싱 방법에 의한 UV-나노임프린트 리소그래피 = UV nanoimprint lithography using a multi-dispensing method / 정준호, 심영석, 손현기, 신영재, 이응숙
형태사항 p. 604-610 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 제어·자동화·시스템공학 논문지. 제어·자동화·시스템공학회. 10권 7호(2004년 7월), p. 604-610 10:7<604 상세보기 ISSN 1225-9845
저자: 정준호, 한국기계연구원 나노메카니즘그룹 E-MAIL: jhjeong@kimm.re.kr
저자: 심영석, 한국기계연구원 나노메카니즘그룹 E-MAIL: simsimhe@kimm.re.kr
저자: 손현기, 한국기계연구원 레이저응용시스템그룹 E-MAIL: hsohn@kimm.re.kr
저자: 신영재, 한국기계연구원 나노메카니즘그룹 E-MAIL: yjshin@kimm.re.kr
저자: 이응숙, 한국기계연구원 지능형정밀기계연구부 E-MAIL: les648@kimm.re.kr
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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