기사
실리콘 산화막의 플라즈마 식각에 대한 표면반응 모델링 = Surface reaction modeling for plasma etching of SiO₂ thin film
표제/저자사항 실리콘 산화막의 플라즈마 식각에 대한 표면반응 모델링 = Surface reaction modeling for plasma etching of SiO₂ thin film / 임연호
형태사항 p. 520-527 ; 29 cm
주기사항 수록자료: 화학공학. 한국화학공학회. 44권 5호(2006년 10월), p. 520-527 44:5<520 상세보기 ISSN 0304-128X
저자: 임연호, 전북대학교 화학공학부, 나노소재공정연구센터 E-MAIL: yeonhoim@chonbuk.ac.kr
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
위로