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급속열처리시 Ta-silicide 박막 형성에 미치는 불순물 인의 영향 = (The)effect of phosphorus on the formation of Ta-silicide film by RTA
표제/저자사항 급속열처리시 Ta-silicide 박막 형성에 미치는 불순물 인의 영향 = (The)effect of phosphorus on the formation of Ta-silicide film by RTA / 김동준, 강대술, 강성군, 김헌도, 박형호, 박종완
형태사항 p. 855-860 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 4권 8호(1994년 12월), p. 855-860 4:8<855 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 김동준, 한양대학교 금속공학과
저자: 강대술, 한양대학교 금속공학과
저자: 강성군, 한양대학교 재료공학과
저자: 김헌도, 현대 전자(주)
저자: 박형호, 전자통신 연구소
저자: 박종완, 한양대학교 금속공학과
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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