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Co 단일층과 Co / Ti 이중층에 의하여 형성된 코발트 실리사이드막의 구조 = Investigation of thin film structures of cobalt silicides formed with a Co monolayer and a Co / Ti bilayer
표제/저자사항 Co 단일층과 Co / Ti 이중층에 의하여 형성된 코발트 실리사이드막의 구조 = Investigation of thin film structures of cobalt silicides formed with a Co monolayer and a Co / Ti bilayer / 이종무, 이병욱, 권영재, 김영욱, 이수천
형태사항 p. 861-870 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 6권 9호(1996년 9월), p. 861-870 6:9<861 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 이종무, 인하대학교 금속공학과
저자: 이병욱, 인하대학교 금속공학과
저자: 권영재, 인하대학교 금속공학과
저자: 김영욱, 삼성전자
저자: 이수천, 삼성전자
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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