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Co / metal / Si 이중층 구조의 실리사이드화 열처리에 따른 dopant의 재분포 = Redistribution of dopant by silicidation treatment in Co / Metal / Si
표제/저자사항
Co / metal / Si 이중층 구조의 실리사이드화 열처리에 따른 dopant의 재분포 = Redistribution of dopant by silicidation treatment in Co / Metal / Si / 이종무, 권영재, 이수천, 강호규, 배대록, 신광수, 이도형
형태사항
p. 189-194 ; 30 cm
주기사항
수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 8권 3호(1998년 3월), p. 189-194 8:3<189 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 이종무, 인하대학교 금속공학과
저자: 권영재, 인하대학교 금속공학과
저자: 이수천, 인하대학교 금속공학과
저자: 강호규, 삼성전자 반도체연구소 LS 공정개발
저자: 배대록, 삼성전자 반도체연구소 LS 공정개발
저자: 신광수, 산업과학기술연구소 분석실
저자: 이도형, 산업과학기술연구소 분석실
저자: 이종무, 인하대학교 금속공학과
저자: 권영재, 인하대학교 금속공학과
저자: 이수천, 인하대학교 금속공학과
저자: 강호규, 삼성전자 반도체연구소 LS 공정개발
저자: 배대록, 삼성전자 반도체연구소 LS 공정개발
저자: 신광수, 산업과학기술연구소 분석실
저자: 이도형, 산업과학기술연구소 분석실
출처
국립중앙도서관 바로가기
MARC 보기
001KMO201509136
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24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
