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HF 세정후 자연 산화막의 존재가 티타늄 실리사이드 형성에 미치는 영향 = (The)effect of native oxide on the TiSi₂ transformation after HF cleaning
표제/저자사항 HF 세정후 자연 산화막의 존재가 티타늄 실리사이드 형성에 미치는 영향 = (The)effect of native oxide on the TiSi₂ transformation after HF cleaning / 배종욱, 현영철, 유현규, 이정용, 남기수
형태사항 p. 464-469 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 8권 5호(1998년 5월), p. 464-469 8:5<464 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 배종욱, 한국과학기술원 재료공학과
저자: 현영철, 전자통신연구원 반도체연구단
저자: 유현규, 전자통신연구원 반도체연구단
저자: 이정용, 한국과학기술원 재료공학과
저자: 남기수, 전자통신연구원 반도체연구단
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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