기사
트렌치 식각시 식각 방지막의 형성과 이들이 결함 생성에 미치는 영향 = Formation of passivation layer and its effect on the defect generation during trench etching
표제/저자사항 트렌치 식각시 식각 방지막의 형성과 이들이 결함 생성에 미치는 영향 = Formation of passivation layer and its effect on the defect generation during trench etching / 이주욱, 김상기, 김종대, 구진근, 이정용, 남기수
형태사항 p. 634-640 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 8권 7호(1998년 7월), p. 634-640 8:7<634 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 이주욱, 한국과학기술원 재료공학과
저자: 김상기, 한국전자통신연구원 반도체연구단
저자: 김종대, 한국전자통신연구원 반도체연구단
저자: 구진근, 한국전자통신연구원 반도체연구단
저자: 이정용, 한국과학기술원 재료공학과
저자: 남기수, 한국전자통신연구원 반도체연구단
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
위로