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화학적 산화막을 이용한 epitaxial CoSi₂ 형성과 계면구조 = Formation and interface morphologies of the epitaxial CoSi₂ using the chemical oxide on Si(100) substrate
표제/저자사항 화학적 산화막을 이용한 epitaxial CoSi₂ 형성과 계면구조 = Formation and interface morphologies of the epitaxial CoSi₂ using the chemical oxide on Si(100) substrate / 신영철, 배철휘, 전형탁
형태사항 p. 912-917 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 8권 10호(1998년 10월), p. 912-917 8:10<912 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 신영철, 한양대학교 금속공학과
저자: 배철휘, 한양대학교 금속공학과
저자: 전형탁, 한양대학교 금속공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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