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Sputtering법으로 제조된 tungsten nitride 박막의 저항변화에 미치는 급속 열처리 영향 = Effect of rapid thermal annealing on the resistivity changes of reactively sputtered tungsten nitride thin film
표제/저자사항 Sputtering법으로 제조된 tungsten nitride 박막의 저항변화에 미치는 급속 열처리 영향 = Effect of rapid thermal annealing on the resistivity changes of reactively sputtered tungsten nitride thin film / 이기선
형태사항 p. 29-33 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 10권 1호(2000년 1월), p. 29-33 10:1<29 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 이기선, 공주대학교 공과대학 신소재공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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