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유도결합 N₂O 플라즈마를 이용한 실리콘 산화막의 저온성장과 다결정 실리콘 박막 트랜지스터에의 영향 = Silicon oxidation in inductively-coupled N₂O plasma and its effect on polycrystalline-silicon thin film transistors
표제/저자사항
유도결합 N₂O 플라즈마를 이용한 실리콘 산화막의 저온성장과 다결정 실리콘 박막 트랜지스터에의 영향 = Silicon oxidation in inductively-coupled N₂O plasma and its effect on polycrystalline-silicon thin film transistors / 원만호, 김성철, 안진형, 김보현, 안병태
형태사항
p. 724-728 ; 30 cm
주기사항
수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 12권 9호(2002년 9월), p. 724-728 12:9<724 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 원만호, 한국과학기술원 재료공학과
저자: 김성철, 한국과학기술원 재료공학과
저자: 안진형, 한국과학기술원 재료공학과
저자: 김보현, 한국과학기술원 재료공학과
저자: 안병태, 한국과학기술원 재료공학과 E-MAIL: btahn@kaist.ac.kr
저자: 원만호, 한국과학기술원 재료공학과
저자: 김성철, 한국과학기술원 재료공학과
저자: 안진형, 한국과학기술원 재료공학과
저자: 김보현, 한국과학기술원 재료공학과
저자: 안병태, 한국과학기술원 재료공학과 E-MAIL: btahn@kaist.ac.kr
출처
국립중앙도서관 바로가기
MARC 보기
001KMO201509136
00520150303111639
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008150107s2001 gak 100 kor
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24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
710 ▼a한국생명윤리학회
710 ▼a토지문화관
9501 ▼a가격불명
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
