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BCl₃ 기반의 혼합가스들을 이용한 InP 고밀도 유도결합 플라즈마 식각 = High density inductively coupled plasma etching of InP in BCl₃-based chemistries
표제/저자사항 BCl₃ 기반의 혼합가스들을 이용한 InP 고밀도 유도결합 플라즈마 식각 = High density inductively coupled plasma etching of InP in BCl₃-based chemistries / 조관식, 임완태, 백인규, 이제원, 전민현
형태사항 p. 775-778 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 13권 12호(2003년 12월), p. 775-778 13:12<775 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 조관식, 인제대학교 나노공학부, 나노기술 응용연구소
저자: 임완태, 인제대학교 나노공학부, 나노기술 응용연구소
저자: 백인규, 인제대학교 나노공학부, 나노기술 응용연구소
저자: 이제원, 인제대학교 나노공학부, 나노기술 응용연구소 E-MAIL: jwlee@Inje.ac.kr
저자: 전민현, 인제대학교 나노공학부, 나노기술 응용연구소
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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