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MOCVD법과 MOD법으로 제작된 Ta₂O₅ 박막의 열처리 온도에 따른 유전특성연구 = Dielectric properties of Ta₂O₅ films annealed at various temperature by MOCVD and MOD
표제/저자사항 MOCVD법과 MOD법으로 제작된 Ta₂O₅ 박막의 열처리 온도에 따른 유전특성연구 = Dielectric properties of Ta₂O₅ films annealed at various temperature by MOCVD and MOD / 강필규, 진정근, 변동진, 배재준, 남산
형태사항 p. 801-805 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 13권 12호(2003년 12월), p. 801-805 13:12<801 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 강필규, 고려대학교 재료공학과
저자: 진정근, 고려대학교 재료공학과
저자: 변동진, 고려대학교 재료공학과 E-MAIL: dbyun@korea.ac.kr
저자: 배재준, 고려대학교 재료공학과
저자: 남산, 고려대학교 재료공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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