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이온플레이팅법으로 제조된 TiAlLaN계 박막의 산화속도 = Oxidation rates of TiAlLaN thin films deposited by ion plating
표제/저자사항 이온플레이팅법으로 제조된 TiAlLaN계 박막의 산화속도 = Oxidation rates of TiAlLaN thin films deposited by ion plating / 서성만, 이기선, 이기안
형태사항 p. 163-167 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 14권 3호(2004년 3월), p. 163-167 14:3<163 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 서성만, 공주대학교 신소재공학부
저자: 이기선, 공주대학교 신소재공학부 E-MAIL: kslee@kongju.ac.kr
저자: 이기안, 포항산업과학연구원 부품신소재연구센터 신금속연구팀
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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