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원자층 증착법으로 성장한 HfO₂ 박막의 제조 = Preparation of hafnium oxide thin films grown by atomic layer deposition
표제/저자사항 원자층 증착법으로 성장한 HfO₂ 박막의 제조 = Preparation of hafnium oxide thin films grown by atomic layer deposition / 김희철, 김민완, 김형수, 김혁종, 손우근, 정봉교, 김석환, 이상우, 최병호
형태사항 p. 275-280 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 15권 4호(2005년 4월), p. 275-280 15:4<275 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 김희철, 금오공과대학교 신소재시스템공학부
저자: 김민완, 금오공과대학교 신소재시스템공학부
저자: 김형수, 금오공과대학교 신소재시스템공학부
저자: 김혁종, 금오공과대학교 신소재시스템공학부
저자: 손우근, 금오공과대학교 신소재시스템공학부
저자: 정봉교, LG. Philips Displays 설계실
저자: 김석환, 금오공과대학교 신소재시스템공학부
저자: 이상우, 금오공과대학교 신소재시스템공학부
저자: 최병호, 금오공과대학교 신소재시스템공학부 E-MAIL: choibh@kumoh.ac.kr
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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