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산소 플라즈마를 이용하여 원거리 플라즈마 원자층 증착법으로 형성된 하프늄 옥사이드 게이트 절연막의 특성 연구 = Characteristics of hafnium oxide gate dielectrics deposited by remote plasma-enhanced atomic layer deposition using oxygen plasma
표제/저자사항 산소 플라즈마를 이용하여 원거리 플라즈마 원자층 증착법으로 형성된 하프늄 옥사이드 게이트 절연막의 특성 연구 = Characteristics of hafnium oxide gate dielectrics deposited by remote plasma-enhanced atomic layer deposition using oxygen plasma / 조승찬, 전형탁, 김양도
형태사항 p. 263-267 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 17권 5호(2007년 5월), p. 263-267 17:5<263 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 조승찬, 부산대학교 재료공학부
저자: 전형탁, 한양대학교 신소재공학부
저자: 김양도, 부산대학교 재료공학부 E-MAIL: yangdo@pusan.ac.kr
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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