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플라즈마 포커스를 이용한 크롬 산화물 박막 성장의 분위기 기체 압력 의존성 연구 = Dependence of gas pressure on Cr oxide thin film growth using a plasma focus device
표제/저자사항 플라즈마 포커스를 이용한 크롬 산화물 박막 성장의 분위기 기체 압력 의존성 연구 = Dependence of gas pressure on Cr oxide thin film growth using a plasma focus device / 정규호, 이재갑, 임현식, L. Karpinski, M. Scholz, 이전국
형태사항 p. 308-312 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 17권 6호(2007년 6월), p. 308-312 17:6<308 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 정규호, 동국대학교 반도체 과학과, Institute of Plasma Physics and Laser Microfusion (IPPLM)
저자: 이재갑, 한국과학기술연구원 박막재료연구센터
저자: 임현식, 동국대학교 반도체 과학과
저자: L. Karpinski, Institute of Plasma Physics and Laser Microfusion (IPPLM)
저자: M. Scholz, Institute of Plasma Physics and Laser Microfusion (IPPLM)
저자: 이전국, 한국과학기술연구원 박막재료연구센터 E-MAIL: jkleemc@kist.re.kr
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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