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다층 RIE electrode를 이용한 아크릴의 O₂ / N₂ 플라즈마 건식 식각 = O₂ / N₂ plasma etching of acrylic in a multi-layers electrode RIE system
표제/저자사항 다층 RIE electrode를 이용한 아크릴의 O₂ / N₂ 플라즈마 건식 식각 = O₂ / N₂ plasma etching of acrylic in a multi-layers electrode RIE system / 김재권, 김주형, 박연현, 주영우, 백인규, 조관식, 송한정, 이제원
형태사항 p. 642-647 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 한국재료학회지. 韓國材料學會. 17권 12호(2007년 12월), p. 642-647 17:12<642 상세보기 ISSN 1225-0562
저자: 김재권, 인제대학교 나노공학부, 나노 메뉴팩처링 연구소
저자: 김주형, 인제대학교 나노공학부, 나노 메뉴팩처링 연구소
저자: 박연현, 인제대학교 나노공학부, 나노 메뉴팩처링 연구소
저자: 주영우, 인제대학교 나노공학부, 나노 메뉴팩처링 연구소
저자: 백인규, 인제대학교 나노공학부, 나노 메뉴팩처링 연구소
저자: 조관식, 인제대학교 나노공학부, 나노 메뉴팩처링 연구소
저자: 송한정, 인제대학교 나노공학부, 나노 메뉴팩처링 연구소
저자: 이제원, 인제대학교 나노공학부, 나노 메뉴팩처링 연구소 E-MAIL: jwlee@hotmail.com
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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