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반응성 마그네트론 프로세서의 방전특성 및 질화티타늄 박막형성에 관한 연구 = Study on discharge characteristics and TiN thin film by magnetron process
표제/저자사항 반응성 마그네트론 프로세서의 방전특성 및 질화티타늄 박막형성에 관한 연구 = Study on discharge characteristics and TiN thin film by magnetron process / 金光和, 趙淵玉, 郭永淳, 曺井守, 朴正后
형태사항 p. 1280-1289 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 전기학회논문지. 대한전기학회. 40卷 12號(1991년 12월), p. 1280-1289 40:12<1280 상세보기 ISSN 0254-4172
저자: 김광화, 정회원, 전기연구소 고전압연구실 선임연구원
저자: 조연옥, 정회원, 전기연구소 고전압연구실 실장, 공박
저자: 곽영순, 정회원, 부산대 공대 전기공학과 교수, 공박
저자: 조정수, 정회원, 부산대 공대 전기공학과 교수, 공박
저자: 박정후, 정회원, 부산대 공대 전기공학과 부교수, 공박
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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