기사
저압화학기상성장법으로 제작된 실리콘 옥시나이트라이드의 pH 농도감지특성 조절에 관한 연구 = (A)study on pH sensitivity controlling of silicon oxinitrides fabricated by low pressure chemical vapor deposition
표제/저자사항 저압화학기상성장법으로 제작된 실리콘 옥시나이트라이드의 pH 농도감지특성 조절에 관한 연구 = (A)study on pH sensitivity controlling of silicon oxinitrides fabricated by low pressure chemical vapor deposition / 申白均
형태사항 p. 364-368 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 전기학회논문지. 대한전기학회. 46卷 3號(1997년 3월), p. 364-368 46:3<364 상세보기 ISSN 0254-4172
저자: 신백균, 정회원, Univ. of Erlangen-Nuernberg 전기공학부 박사과정, Fraunhofer Institute of Intergrated Circuits 객원연구원
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
위로