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고밀도 플라즈마에서 규소산화막을 마스크로 이용한 백금박막의 패터닝 = Patterning of Pt thin films using SiO₂ mask in a high density plasma
표제/저자사항 고밀도 플라즈마에서 규소산화막을 마스크로 이용한 백금박막의 패터닝 = Patterning of Pt thin films using SiO₂ mask in a high density plasma / 李喜習, 李鍾根, 朴世根, 鄭揚喜
형태사항 p. 87-92 ; 26 cm
주기사항 수록자료: 電子工學會論文誌. D. 大韓電子工學會. 제34권 3호(1997년 3월), p. 87-92 34:3<87 상세보기 ISSN 1226-5845
저자: 이희습, 정회원, 인하대학교 반도체 및 박막기술연구소
저자: 이종근, 정회원, 인하대학교 반도체 및 박막기술연구소
저자: 박세근, 정회원, 인하대학교 반도체 및 박막기술연구소
저자: 정양희, 정회원, 여수 수산대학 전기공학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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