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Fowler-Nordheim 터널링 전자주입에 의한 질화 게이트 산화막의 특성 분석 = Characterizations of nitrided gate oxides by Fowler-Nordheim tunneling electron injection
표제/저자사항 Fowler-Nordheim 터널링 전자주입에 의한 질화 게이트 산화막의 특성 분석 = Characterizations of nitrided gate oxides by Fowler-Nordheim tunneling electron injection / 張聖洙, 文成根, 盧官鍾, 盧用翰, 李七基
형태사항 p. 79-87 ; 26 cm
주기사항 수록자료: 電子工學會論文誌. D. 大韓電子工學會. 제35권 7호(1998년 7월), p. 79-87 35:7<79 상세보기 ISSN 1226-5845
저자: 장성수, 정회원, 성균관대학교 전기 전자 및 컴퓨터 공학부
저자: 문성근, 정회원, 성균관대학교 전기 전자 및 컴퓨터 공학부
저자: 노관종, 정회원, 성균관대학교 전기 전자 및 컴퓨터 공학부
저자: 노용한, 정회원, 성균관대학교 전기 전자 및 컴퓨터 공학부
저자: 이칠기, 정회원, 성균관대학교 전기 전자 및 컴퓨터 공학부
출처 국립중앙도서관 바로가기
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001KMO201509136
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24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
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710 ▼a토지문화관
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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