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고속 실리콘 박막 증착 기술 동향
표제/저자사항 고속 실리콘 박막 증착 기술 동향 / 홍완식
형태사항 p. 79-86 ; 30 cm
주기사항 수록자료: 세라미스트. 한국세라믹학회. 8권 5호(2005년 10월), p. 79-86 8:5<79 상세보기 ISSN 1226-976X
저자: 홍완식, 세종대학교 전자공학과 E-MAIL: wshong@sejong.ac.kr
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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