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초임계 이산화탄소와 공용매 및 첨가제를 이용한 고이온 주입된 포토레지스트의 제거 = Stripping of high dose ion implanted photoresist using cosolvents and additives in supercritical carbon dioxide
표제/저자사항
초임계 이산화탄소와 공용매 및 첨가제를 이용한 고이온 주입된 포토레지스트의 제거 = Stripping of high dose ion implanted photoresist using cosolvents and additives in supercritical carbon dioxide / 김승호, 김준호, 임권택
형태사항
p. 285-291 ; 26 cm
주기사항
수록자료: 한국화상학회지. 한국화상학회. vol.13 no.4(2007년 12월), p. 285-291 13:4<285 상세보기 ISSN 1226-0517
저자: 김승호, 부경대학교 화상정보공학부
저자: 김준호, 부경대학교 화상정보공학부
저자: 임권택, 부경대학교 화상정보공학부 E-MAIL: ktlim@pknu.ac.kr
저자: 김승호, 부경대학교 화상정보공학부
저자: 김준호, 부경대학교 화상정보공학부
저자: 임권택, 부경대학교 화상정보공학부 E-MAIL: ktlim@pknu.ac.kr
출처
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MARC 보기
001KMO201509136
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24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
260 ▼a원주 :▼b토지문화재단,▼c2001
300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
710 ▼a한국생명윤리학회
710 ▼a토지문화관
9501 ▼a가격불명
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
