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클린룸 환경에서 가열되는 회전 반도체 웨이퍼로의 입자침착 수치해석 = Numerical analysis on particle deposition onto a heated rotating semiconductor wafer in clean room environment
표제/저자사항 클린룸 환경에서 가열되는 회전 반도체 웨이퍼로의 입자침착 수치해석 = Numerical analysis on particle deposition onto a heated rotating semiconductor wafer in clean room environment / 송근수, 유경훈, 이건형
형태사항 p. 170-179 ; 26 cm
주기사항 수록자료: 한국실내환경학회지. 한국실내환경학회. 3권 2호(2006년 6월), p. 170-179 3:2<170 상세보기 ISSN 1738-4125
저자: 송근수, 한국생산기술연구원 에어로졸·오염제어연구실
저자: 유경훈, 한국생산기술연구원 에어로졸·오염제어연구실 E-MAIL: khyoo@kitech.re.kr
저자: 이건형, 삼성전자(주) 반도체총괄 기술센터
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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