학위논문
Divergent processes for the C9 to C15 monomers of polyamide from vegetable olis and synthesis of the dissolution inhibitors and the negative tone photoresists for ArF photolithography = 식물성 오일 기반 폴리아미드 단량체의 다양한 합성 공정과 ArF 포토리소그래피용 용해억제제와 네거티브 포토레지스트의 합성
표제/저자사항 Divergent processes for the C9 to C15 monomers of polyamide from vegetable olis and synthesis of the dissolution inhibitors and the negative tone photoresists for ArF photolithography = 식물성 오일 기반 폴리아미드 단량체의 다양한 합성 공정과 ArF 포토리소그래피용 용해억제제와 네거티브 포토레지스트의 합성 / 高武鉉
발행사항 Seoul : Seoul National University, 2015
형태사항 xiii, 111 leaves : illustrations ; 26 cm
주기사항 Adviser: 金榮奎
Thesis(Ph.D.) -- Graduate School of Seoul National University, 工科大學 化學生物工學部, 2015
Bibliography: leaves 83-90
In English; summary in Korean
분류기호 한국십진분류법-> 571.805듀이십진분류법-> 661.805
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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