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혼합 소스 수소화물 기상 에피택시에 의한 AlN 에피층 성장 = Growth of an AlN epilayer by using mixed-source hydride vapor phase epitaxy
표제/저자사항 혼합 소스 수소화물 기상 에피택시에 의한 AlN 에피층 성장 = Growth of an AlN epilayer by using mixed-source hydride vapor phase epitaxy / 배숭근, 전인준, 양민, 이삼녕, 안형수, 전현수, 김경화, 이상칠, 김석환
형태사항 p. 39-45 ; 29cm
주기사항 영어 요약 있음
수록자료: 새물리. 한국물리학회. 68권 1호(2018년 1월), p. 39-45 68:1<39 상세보기 ISSN 0374-4914
저자: 배숭근, 한국해양대학교 전자소재공학과
저자: 전인준, 한국해양대학교 전자소재공학과
저자: 양민, 한국해양대학교 전자소재공학과
저자: 이삼녕, 한국해양대학교 전자소재공학과
저자: 안형수, 한국해양대학교 전자소재공학과
저자: 전현수, 한국해양대학교 화합물반도체공정기술센터
저자: 김경화, 한국해양대학교 화합물반도체공정기술센터
저자: 이상칠, 제주대학교 과학교육학부, 교육과학연구소
저자: 김석환, 안동대학교 물리학과
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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