학위논문
Cu electroless bottom-up filling techniques for ULSI interconnect fabrication = 초 고밀도 집적회로 배선 공정을 위한 구리 무전해 초등각 전착
표제/저자사항 Cu electroless bottom-up filling techniques for ULSI interconnect fabrication = 초 고밀도 집적회로 배선 공정을 위한 구리 무전해 초등각 전착 / 이창화
발행사항 서울: 서울대학교, 2006
형태사항 xv, 176 leaves: ill., charts; 26 cm
주기사항 학위논문(박사) -- 서울대학교 대학원, 화학생물공학부, 2006.
Bibliography: leaves 149-166.
분류기호 한국십진분류법-> 570.301듀이십진분류법-> 660.297
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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