학위논문
초고진공 전자공명 화학기상증착법으로 성장된 비정질 실리콘 박막의 구조적.광학적 특성 = Structural and optical properties of a-Si:H thin films grown by ultrahigh vacuum electron cyclotron resonance chemical vapor deposition (UHV-ECRCVD)
표제/저자사항 초고진공 전자공명 화학기상증착법으로 성장된 비정질 실리콘 박막의 구조적.광학적 특성 = Structural and optical properties of a-Si:H thin films grown by ultrahigh vacuum electron cyclotron resonance chemical vapor deposition (UHV-ECRCVD) / 주성재
발행사항 서울: 서울대학교, 2000
형태사항 xiv,171p.: 삽도; 26cm
주기사항 학위논문(박사) -- 서울대학교 대학원: 무기재료공학과, 2000
분류기호 한국십진분류법-> 530.46듀이십진분류법-> 620.14
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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