학위논문
Characteristics of low-resistive plasma enhanced chemical vapor deposited Tungsten(PECVD-W) thin films
표제/저자사항 Characteristics of low-resistive plasma enhanced chemical vapor deposited Tungsten(PECVD-W) thin films / Yong Tae Kim
발행사항 서울: Korea advanced institute of science and technology, 1992
형태사항 v,166 p.: ill.,plates; 26cm
주기사항 한글서명 : 플라즈마 화학증착된 저저항 텅스텐박막의 특성
학위논문(박사) -- 한국과학기술원: 전기 및 전자공학과, 1992
분류기호 한국십진분류법-> 569.8듀이십진분류법-> 621.38171
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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