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학위논문
高集積 記憶素子用 積層 커패시터 絶緣薄膜 SiO₂ / Si₃N₄의 形成 및 特性에 關한 硏究 = (A)study on formation and characterization of stacked capacitor dielectric thin film (SiO₂ / Si₃N₄) for high density DRAM
표제/저자사항
高集積 記憶素子用 積層 커패시터 絶緣薄膜 SiO₂ / Si₃N₄의 形成 및 特性에 關한 硏究 = (A)study on formation and characterization of stacked capacitor dielectric thin film (SiO₂ / Si₃N₄) for high density DRAM / 丘庚完
발행사항
대전: 忠南大學校, 1992
형태사항
vii,110장: 삽도; 26cm
주기사항
학위논문(박사) -- 충남대학교 대학원: 전자공학과 반도체 재료공학전공, 1992
분류기호
한국십진분류법-> 569.91듀이십진분류법-> 621.38173
출처
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MARC 보기
001KMO201509136
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24500▼a생명이란 무엇인가? :▼b생명·환경·문화 8월 대 토론회 /▼d주최: 토지문화재단 ;▼e주관: 한국생명윤리학회,▼e토지문화관
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300 ▼a81 p. ;▼c30 cm
500 ▼a일시 및 장소: 2001년 8월 18일(토) ~ 19일(일), 토지문화관
504 ▼a참고문헌 수록
650 8▼a생명 과학[生命科學]
650 8▼a생명론[生命論]
710 ▼a토지문화재단
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담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
