학위논문
PECVD 법에 의한 μC-Si:H 박막의 성장과 a-Si 박막의 고상결정화 = Growth of μC-Si:H films and solid phase recrystallization of a-Si films deposited by PECVD
표제/저자사항 PECVD 법에 의한 μC-Si:H 박막의 성장과 a-Si 박막의 고상결정화 = Growth of μC-Si:H films and solid phase recrystallization of a-Si films deposited by PECVD / 문대규
발행사항 대전: 한국과학기술원, 1994
형태사항 v,105장: 삽도,도판; 26cm
주기사항 학위논문(박사) -- 한국과학기술원: 재료공학과, 1994
분류기호 한국십진분류법-> 530.48듀이십진분류법-> 620.193
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
위로