학위논문
ECR플라즈마 工程에 의해 製造된 無定型 실리콘 薄膜과 실리콘 酸化薄膜의 特性 = Characteristics of the a-Si:H and SiO₂ thin films prepared by ECR plasma processes
표제/저자사항 ECR플라즈마 工程에 의해 製造된 無定型 실리콘 薄膜과 실리콘 酸化薄膜의 特性 = Characteristics of the a-Si:H and SiO₂ thin films prepared by ECR plasma processes / 全法柱
발행사항 서울: 檀國大學校, 1997
형태사항 xix,250p.: 삽도; 26cm
주기사항 학위논문(박사) -- 단국대학교 대학원: 화학공학과 화학공학전공, 1997
분류기호 한국십진분류법-> 570.329듀이십진분류법-> 660.2995
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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