학위논문
극자외선 리소그래피 하부 무반사층용 fluorinated silicon nitride 박막의 제조 및 특성분석 = Fabrication and characterization of fluorinated silicon nitride thin film for the bottom antireflective layer in deep ultraviolet lithog raphy
표제/저자사항 극자외선 리소그래피 하부 무반사층용 fluorinated silicon nitride 박막의 제조 및 특성분석 = Fabrication and characterization of fluorinated silicon nitride thin film for the bottom antireflective layer in deep ultraviolet lithog raphy / 전병혁
발행사항 대전: 한국과학기술원, 1998
형태사항 xv,158p.: 삽도; 26cm
주기사항 학위논문(박사) -- 한국과학기술원: 재료공학과, 1998
분류기호 한국십진분류법-> 530.48듀이십진분류법-> 620.198
출처 국립중앙도서관 바로가기
담당부서 : 국가서지과 (02-590-6339)
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